Появились первые положительные результаты в рамках исследовательского проекта SIMPLEX: на основе процесса химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы (PECVD) удалось значительно усовершенствовать процесс производства высокоэффективных фотоэлементов типа PERC и в то же время уменьшить производственные затраты.
«Для промышленного процесса плазменного покрытия толщина самого важного слоя для фотоэлементов типа PERC может быть с успехом сокращена на четверть без снижения эффективности фотоэлемента», — говорит координатор проекта доктор Бернхард Корд из компании Singulus Technologies AG.
Это позволяет производить фотоэлементы типа PERC со слоями оксида алюминия толщиной 4 нм вместо сегодняшних 20-30 нм с эффективностью 21,0%. Резкое снижение толщины слоя пассивации с использованием промышленного метода плазменного осаждения стало возможным благодаря тому, что в исследовательской группе получило дальнейшее развитие сочетание плазмотехники и технологии производства фотоэлементов.
Ранее слои такого качества достигались только путем осаждения атомного слоя (ALD), что значительно дороже по сравнению с PECVD. Результаты исследований открывают большой потенциал для экономии материалов, энергии и времени.
Применение подходящих пассивирующих слоев является важным этапом в производстве фотоэлементов на основе кристаллического кремния (c-Si). В отличие от обычных c-Si-фотоэлементов, изготовленных методом трафаретной печати, с тыльной поверхностью, состоящей полностью из алюминия, технология PERC характеризуется двухсторонней пассивацией поверхности посредством тонких слоев. Все больше производителей фотоэлементов используют высокоэффективную технологию PERC (Pasivated Emitter Rear Cell — с пассивированным эмиттером на тыльной стороне фотоэлемента. Их доля рынка в настоящее время составляет уже около 22% с тенденцией роста.
Источник: http://www.it-times.de/news/forscher-senken-kosten-fur-perc-solarzellen-durch-plasma-prozesskontrolle-125349/